什么是PVD涂层？

PVD表面处理工艺的工作原理为：将要镀膜处理的工件2置于真空容器1的电弧蒸发源3中，在高真空条件下，通过电弧蒸发源加热使其蒸发，当蒸发分子的平均自由程大于真空室的线性尺寸以后，蒸汽的原子和分子从蒸发源表面溢出后，很少受到其他分子或原子的冲击与阻碍，可直接到达工件基体表面上，遇有基体温度较低，便凝结其上而成膜。